通过离子清洁和碟片固定器进行双面或单面溅射的真空系统

ATIS-500真空系统旨在通过用初步的离子梁清洁对目标材料进行磁控溅射的方法来沉积涂料。该系统允许在一个真空过程中将涂料放置在基板的一个或两侧。

涂料沉积在安装在磁盘类型基板支架上的基板上。

特征：

• 至多可以安装8种技术设备（至多4个设备进入系统的顶部，至多4个设备进入底部）

• 底物的系统加热至多400℃

技术数据：

技术设备：

• DC-MAGNETRON（至多可以安装6个PC）。

• 离子梁清洁源（至多可以安装2个PC。）

• RF-MAGNETRON（可选）