研发和小批量生产的通用溅射系统

Elato真空系统的各种可能的配置允许在为确切任务配置系统时超高程度地灵活。

特征*：

• 电子束蒸发（电子束）系统

• 电阻蒸发系统

• 磁控溅射系统

• 离子光束清洁系统

• 基板支架：单光盘，圆顶

• 负载锁室（选项）

• 底物加热系统高达400°C

• 高效率在散布贵金属

*技术设备的配置是根据客户要求制定

技术设备：

• 电子梁蒸发系统

• 电阻蒸发系统

• 离子梁清洁和协助的来源

• RF-MAGNETRON

• RF离子梁帮助来源

• 直流磁通

技术数据：