Ultra® PECVD-200

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血浆的系统增强化学蒸气沉积过程,具有电容耦合等离子体(CCP)

 

特征:

  • 涂料的出色粘附

  • 较高的沉积率

  • 低温过程而不减少膜参数

  • 在复杂形状的基材上沉积涂料的可能性

  • CCP阻抗匹配的全自动系统

  • 更大的维护间隔(自我清洁功能)

  • 各种各样的选项,有助于提高真空系统功能并通过PECVD的沉积方法执行各种任务

 

其他选项:

  • 负载锁真空室,具有自动底物的机理,将加载到技术真空室

  • 洗涤器进行排气清洁

  • 有毒,易燃和爆炸气的气体柜

  • 恒温器

  • 实现极其干净的沉积过程的其他外部抽水电路

  • 其他气体线

  • 氮(N2)腔室填充系统

  • 提供液体反应性化学物质的系统

 

技术数据:


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其他功能:

  • 基材的静电固定

  • 基材低温冷却系统

  • 基材恒温(HE)的基材恒温(HE)的系统

  • 带有RF偏置的底物持有器设计,该设计允许调整等离子体的能量光谱

  • 单波或宽带光学监测系统

  • 光学发射光谱

  • 激光干涉法

  • 安装到干净的房间


地址:

河北省保定市安国市义丰大路27号

电话:

18513991429
13651207893

邮箱:

lisali@baivac.com