磁控溅射和RF等离子体氧化技术（META模式）的光学涂料的真空系统（META模式）
该技术方法代表金属（1-3 nm）的薄层或半导体材料的沉积，并在离子气体环境中对层的氧化进行了以下氧化。该方法允许以高沉积速率接收高质量的介电涂层。真空系统的配置允许将两种不同的材料存放在一个技术过程中，每种材料的可控沉积速率。
RF血浆源以及用于在沉积过程之前清洁和激活底物表面的源。
鼓类型的基材支架，负载锁真空室，单波或宽带监控系统可以以高收率达到系统的高生产率。
技术设备：
特征：
高沉积率
负载锁真空室
鼓类型的基板支架，面孔的面积不同
单波或宽带光学监测系统
同时沉积两种不同的材料，每种材料具有可控沉积速率
技术数据：
