带有钻石样涂层（DLC）技术的离子束等离子化学沉积（离子束CVD）的真空系统

Diamanta真空系统旨在在硅和锗底物上沉积耐磨钻石样碳（DLC）涂层。 DLC涂层在3-5 µm和7-14 µm的IR范围内也具有抗反射性。

沉积方法是由离子梁源的血浆刺激的气相中的碳化学沉积。

使用示例：

• 夜视设备

• 热成像仪

• 高温计

• 镜头的光学系统

技术设备：

• 离子梁溅射来源

• 离子梁清洁来源

特征：

• DLC膜沉积的独特方法

• 单波光学监测系统

• 负载锁真空室

• 该过程的完全自动化

技术数据：