将离子梁（由一个具有定义能量和离子密度定义的特征的离子束（特定特征）定义为一定效应的表面的离子梁处理，将其定义为一定的效果。

末端霍尔离子束源形成真空中的密集（高密度）低能离子束。源产生了工作气体离子的锥体发散束。

应用：

真空技术系统中应用的“ strelock”离子梁源用于用惰性或反应性气体的低能量离子来协助膜沉积过程。 “ strelock”可以应用于离子梁清洁，反应性离子束蚀刻，气相涂料合成等的技术过程中。

主要任务：

在生产光学，微电源，机械工程，用于底物低能离子清洁的药物以及通过真空中的蒸发和沉积来协助胶片涂料过程，以及从气相中合成涂料，反应性蚀刻，等离子化学反应，酸化，酸化，硝化）和其他技术的研究。

无网状离子束源“ strelok”用于伊托和Ortus。