磁控溅射是一种用于在真空室和工作气体中使用阴极溅射在交叉电气和磁场中的靶材料的技术的技术。

导电材料（例如导体和半导体）用作中频DC和AC磁子中的靶标。磁性材料的使用受到目标厚度的限制，需要使用特殊的磁系统。为了溅射介电材料，使用了磁铁的RF版本，该版本还需要一个RF生成器和用于应用放电系统的匹配网络。

应用：

矩形木磁子用于周期性和连续操作的真空安装，其底物尺寸高达3米或更多。

主要任务：

- 光学，半导体设备的生产，薄膜杂种集成电路，压电产品，大声电机；

- 功能涂层的沉积：光学，导电，保护性，介电，塑料和玻璃产物表面的金属化等；

平面矩形磁控管用于Gyratiz，ATIS，与74。