自动宽带光学控制系统的溅射过程
特征:
复杂多层涂层的溅射过程的完全自动化
在溅射过程中优化涂层结构
主要控制模式是直接放置在旋转基板支架上的基板上的光透射率(证人)(直接测量)。光谱仪测量底物持有人每次旋转后整个工作范围内涂层的真实光谱
优化算法在溅射过程中监视当前结果,如果以前的层偏差,请重新计算结构并在下一层中引入更正以补偿先前的偏差。
技术数据:
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